• 氦質譜檢漏儀

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    真空鍍膜裝備檢漏系統的設計與分析

    真空鍍膜裝備檢漏系統的設計與分析

    璃改性工藝用真空鍍膜主要指一類需要在高真空狀態下進行的玻璃鍍膜。真空鍍膜設備是鍍膜玻璃生產線中關鍵設備,鍍膜段高本底真空和腔體的低漏率是生產優質鍍膜玻璃的前提和保證。因此,所加工的真空鍍膜腔體不僅要求快速地抽空,而且要求漏率<1×10-7mbar./s。

    傳統的檢漏方式存在本底真空度低和高污染的問題,并且對更為小的漏孔難以檢漏。因此我們提出了利用氦質譜檢漏儀對真空鍍膜腔體進行檢漏操作。該方案具有靈敏度高和能夠精確定位漏孔等優點。

    真空系統的漏氣是絕對的,不漏氣是相對的。真空鍍膜腔體在泵抽系統的作用下不斷向外排氣,用以維持本底的高真空。由于真空鍍膜腔體一直處于抽空狀態,外部示漏氣體氦氣通過鍍膜腔體真空系統進入檢漏儀。氦質譜檢漏儀通過檢漏口閥門連接到真空泵抽系統中。

    系統檢查完成后,開啟柜外電源,關閉柜內斷路器;開啟循環冷卻水系統;開啟旋片泵和羅茨泵,達到真空度后開啟分子泵;啟動檢漏儀,達到開啟狀態后對可疑漏點進行噴氦,檢漏完成后依次關閉系統。

    真空鍍膜裝備在加工制造和安裝調試過程中都有可能形成漏孔。主要有以下原因:焊接缺陷,冷加工缺陷,密封面粗糙,密封圈受損。針對漏孔形成的原因,應當在生產和安裝調試過程中加以注意。



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